CVD散热片
CVD多晶金刚石 55×0.25mm
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CVD多晶金刚石 55×0.25mm

CVD多晶金刚石 55×0.25mm

河南天佑超硬材料有限公司生产的55×0.25mm CVD 多晶金刚石散热片,采用 CVD 化学气相沉积工艺生长成型,为多晶金刚石薄片。金刚石本身具备极高热导率,同时拥有低介电、低热膨胀、高硬度、耐腐蚀等特性,绝缘不导电,避免芯片短路风险。 产品可做镜面抛光处理,表面粗糙度低,方便后续金属化镀膜,适配共晶焊、焊料焊接封装。0.8mm 薄型设计,热阻更小,热量传导速度快,适合紧凑型光电器件封装。 CVD 金刚石散热性能远优于铜、银、碳化硅等常规散热材料,热膨胀匹配光芯片,可降低热应力,提升激光器、光通信器件长期稳定性。 广泛应用于高功率激光二极管、VCSEL 阵列、光发射模块、红外探测器件、高速光通信芯片等光电行业热管理。支持异形切割、打孔、图形化金属化、定制尺寸加工,可批量供货。

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河南天佑超硬材料有限公司生产的55×0.25mm CVD 多晶金刚石散热片,采用 CVD 化学气相沉积工艺生长成型,为多晶金刚石薄片。金刚石本身具备极高热导率,同时拥有低介电、低热膨胀、高硬度、耐腐蚀等特性,绝缘不导电,避免芯片短路风险。 产品可做镜面抛光处理,表面粗糙度低,方便后续金属化镀膜,适配共晶焊、焊料焊接封装。0.8mm 薄型设计,热阻更小,热量传导速度快,适合紧凑型光电器件封装。 CVD 金刚石散热性能远优于铜、银、碳化硅等常规散热材料,热膨胀匹配光芯片,可降低热应力,提升激光器、光通信器件长期稳定性。 广泛应用于高功率激光二极管、VCSEL 阵列、光发射模块、红外探测器件、高速光通信芯片等光电行业热管理。支持异形切割、打孔、图形化金属化、定制尺寸加工,可批量供货。

规格:

项目参数
品名CVD 多晶金刚石散热片 / CVD 金刚石衬底
尺寸55×0.25mm(长 × 厚度,宽度可按需说明,如为方形请告诉我)
制备工艺CVD 化学气相沉积
晶体类型多晶金刚石
热导率1800–2200 W/(m·K)
热膨胀系数1.0~1.5 ppm/K
表面原生面 / 镜面抛光可选
表面处理可镀镍、镀金、钛钨金属化
加工能力激光精切、打孔、图形化
特性绝缘、高硬度、耐腐蚀、低热阻
典型用途激光二极管、VCSEL 阵列、光通信、光电探测芯片散热衬底
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