硅半导体晶片的抛光：半导体工业的主要功能之一是微电路的开发。半导体技术的微电路，包括集成电路和微处理器。晶体是超光滑、大尺寸的平面基板。研磨是半导体晶体生产过程中极其重要的步骤，直接影响晶片表面的平整度。
计算机硬盘基板的抛光：硬盘基板的光滑度直接影响记录密度和磁头飞行高度的稳定性。纳米金刚石抛光液可以将硬盘基板的表面粗糙度控制在1纳米以下，满足高密度硬盘的要求。
计算机磁头抛光：硬盘磁头的工作条件极其复杂，尤其是在记录密度不断提高、磁头飞行高度降低至亚纳米级的情况下。纳米金刚石抛光液可对磁头表面进行精密加工，降低表面粗糙度，提高运行稳定性。
光纤连接器抛光：光通信和光纤数据传输系统中的光纤连接器需要使用纳米金刚石抛光液，它能有效降低光纤端面的粗糙度，提高信号传输效率，并被众多光纤设备制造商广泛采用。
